Kirjeldus

Tehnilised parameetrid

Toote tutvustus

HT Mn Oxygen Remover on omamoodi Mn-süsteemi hapnikueemaldaja. Seda kasutatakse peamiselt etüleeni- ja propüleenitööstuses O jälgede eemaldamiseks₂lähteaines või kasutatakse hapniku jälgede eemaldamiseks sellistest gaasidest nagu N₂, H₂, Ar ja CO. Sellel on võime eemaldada hapnikku ilma hüdrogeenimiseta toatemperatuuril, millel on kõrge hapnikueemaldusvõime, suur hapnikueemaldusvõime, süsinikdioksiidi lisandite eemaldamine.₂ja H₂O jne, samuti stabiilne töö ja ülekuumenemise puudumine.

Tavaliselt kasutab enamik tehaseid lähteainest hapniku eemaldamiseks Ni-süsteemi hapnikueemaldajat. Selle mehhanism seisneb selles, et redutseeritud nikkel reageerib propüleenis oleva hapnikuga, tekitades kõrge valentsusega niklioksiide, mille tulemuseks on hapniku eemaldamine.

Kuid tootmispraktikas ei jao nikli hapnikueemaldas olevad aktiivsed keskused hästi, aktiveerimisreaktsioon on äge ja eemaldaja neelab aktiveerimisprotsessis tugevalt vesinikku, mis võib viia niklieemaldi ülekuumenemiseni, mille tulemuseks on puhastustorni paagutamine. See mõjutab normaalset tootmist, mis toob kaasa majandusliku kasu kadumise.

Lisaks on Ni süsteemi hapnikueemaldaja silindrilise kujuga, selle tugevus on madal ja seda on koormamisel kerge purustada. Toodetud pulbrid sisenevad tootmissüsteemi koos lähteainega ja mõjutavad järgnevat protsessi.

HT Mn Oxygen Remover, vastupidi, kõrvaldab ülaltoodud puudused. Selle välisilme on pall, sellel on kõrge tugevus, seda pole laadimisel lihtne purustada, lisaks on sellel mitu funktsiooni, töö on stabiilne, iga indeks vastab polümerisatsiooniprotsessi nõuetele.

HT Mn Oxygen Removeri regenereerimise ja hapniku eemaldamise mehhanismid:

Aktiveerimisprotsess (regenereerimine): MnO_{x +2n}+ 2nH₂→ MnOx + 2nH₂O+Q

Hapniku eemaldamise protsess: MnOx + nO₂→ MnO_{x +2n}+Q

Toote parameetrid

Matehnikasikaalne indekseskohtaHTMn hapniku eemaldaja
Muud atribuudid
Päritolukoht	Hiina
Klassifikatsioon	Katalüsaator
Muu nimi	Mn hapniku eemaldaja
Rakendus	Rafineeritud tooraine propüleeni ja etüleeni tööstuslikuks tootmiseks
Kaubamärgi nimi	XUNDA
Mudeli number	HT
Kvaliteedistandardid
Välimus	Must pruun pall
Puistetihedus, kg/L	1.1±0.2
Purustustugevus, N/granuleeritud	Suurem või võrdne 80
Töötingimused ja puhastusindeksid
Rakendusmeedia	Vedel propüleen, etüleen, N₂, H₂, Ar, CO
Eemaldatav lisand	O₂
Töötemperatuur, kraad	Tavatemperatuur -200, tuleb valida
Maksimaalne kuumakindluse temperatuur, kraad	Vähem kui 500 või sellega võrdne
Ruumikiirus, h^-1	Vedelfaas (3–7) gaasifaas (500–5000)
Hapniku eemaldamise aste, 1×10^-6V/V	Väiksem või võrdne 0,1
Aktiveerimise (regeneratsiooni) temperatuur, kraad	180-350
Hapniku eemaldamise võime (eluiga), ml/g	10-18
Kõrguse ja läbimõõdu suhe	Suurem kui 3 või sellega võrdne
Pakkumise võime
Tootja	Jah
Sertifitseerimine	ISO9001:2015
Pakkumise võime	9600 tonni või tonni aastas
Pakendamine ja kohaletoimetamine
Pakendi üksikasjad	Jumbokott või terastrumli pakend
Port	Shanghai, Ningbo, Shenzhen, Qingdao
Osakute müük	Üksik ese
MOQ	1 tonn
Juhtimisaeg
Kogus (kilogrammides)	>1000
Tarneaeg (päevades)	Läbirääkimistel

HT Mn hapnikueemaldajal on järgmised eelised:

1. Suur hapniku eemaldamise võime

2. Sügav hapniku eemaldamise sügavus

3. Suur tugevus

4. Hea kuumakindlus

5. CO lisandite eemaldamine₂ja H₂O

6. Stabiilne töö ja ülekuumenemise puudumine

Rakendus

HT Mn Oxygen Remover on laialdaselt kasutusel naftakeemia, terasemetallurgia, elektriliste pooljuhtide, kergetööstuse ja ülipuhtaid gaase kasutavates uurimisüksustes.